Cassification
Articles
SID膠體磨與國內膠體磨的性能相比有哪些區別,你真的了解嗎?
2022-08-25氧化鋁高剪切膠體磨專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。XM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。
聯系電話:13338684951
一、產品名稱關鍵詞:氧化鋁高剪切膠體磨,三氧化二鋁高速膠體磨,研磨分散機,實驗室小試膠體磨,18000rpm膠體磨
二、三氧化二鋁特性
Al2O3拋光液的缺點在于選擇性低、分散穩定性不好、易團聚等,但對于硬底材料藍寶石襯底等卻具有優良的去除速率。不過,由于納米α-氧化鋁的硬度很高,因此拋光時易對工件表面造成嚴重的損傷;而且納米氧化鋁的表面能比較高,粒子易團聚,也會造成拋光工件的劃痕、凹坑等表面缺陷。近年來對氧化鋁拋光液的研究主要集中在納米磨料制備、氧化鋁顆粒表面改性、氧化鋁拋光液混合應用等方面。
三、常用的制備工藝
固相法。其中的硫酸鋁銨熱解法、改良拜爾法、爆炸法等是比較成熟的制備方法。固相法制備超細粉體的流程簡單,無需溶劑,產率較高,但生成的粉體易產生團聚,且粒度不易控制,難以得到分布均勻的小粒徑的高質量納米粉體。
氣相法。主要有化學氣相沉淀法,通過加熱等方式改變物質形態,在氣體狀態下發生反應,之后在冷卻過程中形成顆粒。氣相法的優點是反應條件可以控制、產物易精制,顆粒分散性好、粒徑小、分布窄,但產出率低,粉末難收集。
液相法。常見的有水解、噴霧干燥、溶膠凝膠、乳化等幾種方法。液相法的優點體現在:可精確控制產物的化學組成,納米粒子的表面活性高,形狀容易控制分散均勻,生產成本比較低,容易實現工業化生產。
四、高剪切膠體磨應用于氧化鋁
高剪切膠體磨轉移因子膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。XM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料。
五、高剪切膠體磨
膠體磨XM2000系列特別適合于膠體溶液,超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外,XM在摩擦狀態下工作,因此也被稱做濕磨。在錐形轉載和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口問題,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現渦流,因此可以達到更好的研磨分散效果。XM2000整機采用幾何機構的研磨定轉子,好的表面處理和優質材料,可以滿足不同行業的多種需求。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XM2000/4 | 700 | 18000 | 44 | 2.2 | DN25 | DN15 |
XM2000/5 | 3000 | 10500 | 44 | 7.5 | DN40 | DN32 |
XM2000/10 | 8000 | 7200 | 44 | 15 | DN50 | DN50 |
XM2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
XM2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
XM2000/50 | 80000 | 1100 | 44 | 110 | DN150 | DN125 |