Cassification
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液體硅橡膠超高速研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
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液體硅橡膠超高速研磨分散機
液體硅橡膠又稱雙組份加成性硅橡膠。液體硅橡膠是相對混煉型半固態硅橡膠和常見室溫硫化單組分硅膠而言的一類有機硅膠,這類膠具有流動性好,硫化快,可以澆注成型可以注射成型。液態硅橡膠又分為自粘型和非自粘型兩大類。液態硅膠可以常溫固化可以高溫固化。高溫固化的可以在數秒鐘內完成固化過程。
液體硅橡膠分散機,液體硅橡膠研磨分散機,液體硅橡膠分散設備,含有20%氣相二氧化硅,高溫下和有水存在是會接皮。如何讓氣相二氧化硅均勻的分散到體系當中,是一個比較大的難點。因為液體硅橡膠本身粘度高,難以流動,再加上氣相二氧化硅本身達納米級粒徑,容易團聚難以分散。
傳統的批次分散機也就是所謂的插入罐體內的分散設備,難以處理。根本分散不開,導致*后產品分散性差,均勻度低。
所以工程師建議采用管線式分散設備進行處理。主要考慮以下2點:
1、液體硅橡膠一般粘度都比較高,采用批次分散機必然難以分散,而采用管線式分散機的話,只要物料能進入分散機工作腔體,物料就可以*的得到分散,產品均勻度高。而采用管線式分散機必須要解決的問題就是液體硅橡膠的流動性,結合客戶案例,如果液體硅橡膠難以流動,可在管線式分散機前段加一臺輸送泵,確保液體硅橡膠的流動性。
2、液體硅橡膠分散的主要目的,就是將體系中的氣相二氧化硅,充分并且均勻的分散。因為氣硅本身為納米級,分散到硅油中容易團聚,所以必須有一個較強的剪切力去打散二級團聚物,再瞬間進行分散,從而得到高品質的液體硅橡膠產品。
綜合來看,工程師XMD2000系列研磨分散機,研磨分散機是研磨機(膠體磨)+分散機一體化的設備,先研磨后分散,在納米級物料分散領域有著廣泛的應用,如:納米白炭黑分散、納米氧化物分散、鋰電池漿料分散、石墨烯漿料分散機、納米醫藥混懸液分散等,有著突出的優勢。
研磨分散設備的五大特點:
1、*的結構設計:膠體磨頭+分散盤定轉子,研磨分散一步到位。
2、超高剪切速率:剪切速率是指線速度除以定轉子間隙。并不是線速度越大剪切速率就越高,有些國內廠家分散設備線速度很高(轉子直接大),而剪切速率卻很低,因為他們的定轉子間隙很大。而上海I研磨分散機,轉速為14000rpm,線速度為44m/s,定轉子間隙為0.2-0.3mm,綜合剪切速率是國內分散設備的4-5倍。
3、磨頭及定轉子精密度高:純,加工精度高,設計完善。
4、博格曼雙端面機械密封,將泄漏降至更低,并帶有機械密封循環冷卻系統,在保證冷卻水的前提下,可24小時運行。
5、模塊化設計,拆裝簡單,可在線清洗和在線滅菌。設備各環節都帶有夾套,可進行冷卻或升溫,滿足各種不同工藝。
XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
液體硅橡膠超高速研磨分散機