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石墨烯導電漿料研磨分散機線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。
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石墨烯導電漿料研磨分散機
石墨烯的分散 目前,我們已步入應用集中期,要開始做減法了 , 因為大部分潛在應用在實踐中被證實并無實用價值,或是技術上,或是商業上。在這個階段,產業鏈上下游的互動非常必要。我們必須面向用戶進行二次開發,去解決分散和成型等共性技術難題,讓石墨烯更接“地氣”。 *終交給用戶的,不僅是高品質的材料,還有配套的應用解決方案,也就是solution。 有可能你會問 一般國內做碳管或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機 超聲波分散機等等 球磨機或者砂磨機他們偏重研磨炸 會破壞他們的內部結構 。 我們的研磨分散機偏重 分散剝離 。超聲波不適合工業化生產,只是作為一種輔助分散。 研磨:利用剪切力(shear force )、摩擦力或沖擊力(impactforce )將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。 分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating )、潤濕(wetting )、分布(distributing )均勻及穩定(stabilization )目的。 在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
納米研磨分散機是由膠體磨 , 分散機組合而成的高科技產品。 **級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。 CMD2000 系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。石墨烯研磨設備采用先進的高速研磨分散技術,通過超高轉速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質.
研磨分散機工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
研磨分散機結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(均質頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。
狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下, 凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
研磨分散機應用領域:
1、食品工業:芝麻、冰淇淋、月餅餡、果醬、果汁、果茶、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、 乳制品,麥乳精、各種飲料等。
2、化學工業:油漆、顏料、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、洗滌劑、玻璃鋼、白 炭黑,二氧化硅等。
3、日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。
4、醫藥工業:各型糖漿、中成藥、生物制品、魚肝油、蜂皇漿、疫苗、藥膏、口服液、針 劑、混懸注射液,脂肪乳等。
5、建筑工業:各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉 料等。
特別應用:石墨烯漿料、碳納米管漿料、納米材料、陶瓷隔膜、鋰電池行業等 研磨分散機產品導航
設備等級:化工級、衛生 I 級、衛生 II 級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTG 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷 研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機型號表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
XMD2000/4 | 400 | 18,000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
XMD2000/5 | 1000 | 10,500 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
XMD2000/10 | 3000 | 7,200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
XMD2000/20 | 8000 | 4,900 | 51 | 45 | DN80/DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2,850 | 51 | 90 | DN150/DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 51 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到大允許量的 10%。 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
處理量取決于物料的粘度,稠度和終產品的要求。
如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準。
本系列機型具有短程送料能力,無自吸功能,須選用高位進料;物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機相匹配。
石墨烯導電漿料研磨分散機