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氧化鈷濕法分散研磨機

氧化鈷濕法分散研磨機需要加入液體介質中分散應用,氧化鈷+液體介質+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散,解決團聚問題,更均勻的分散,并進一步細化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。

  • 產品型號:XMD
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:1970
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詳細介紹

一、產品名稱關鍵詞:氧化鈷濕法分散研磨機,氧化鈷漿料分散機,氧化鈷漿料納米分散機,氧化物研磨分散機

二、氧化鈷簡介

氧化鈷為黑灰色六方晶系粉末。相對密度6.45。溶于酸,不溶于水,醇,氨水。易被一氧化碳還原成金屬鈷。高溫時易與二氧化硅、氧化鋁或氧化鋅反應生成多種顏料。

三、氧化鈷應用

氧化鈷是一種重要的過渡金屬氧化物。通常作為生產硬質合金、超耐熱合金、絕緣材料和磁性材料的主要原料以及化學工業中的催化劑和染料。目前我國氧化鈷產品的主要應用領域如下:

油漆添加劑,在制造各種油漆時加入氧化鈷,生產的油漆性能有所提高,特別是在油漆中起著催干劑的作用,即在油漆使用中易于快速晾干,以提高應用速率。這對油漆的快速施工大有益處。

搪瓷和陶瓷顏料,搪瓷材料中加入氧化鈷后,可耐腐蝕和提高耐磨度。在各種建材和日用陶瓷中,用氧化鈷制成藍色的顏料或釉料涂于陶瓷制品,經焙燒后呈現了鮮艷的陶瓷品,更具有藝術性。

精煉石油催化劑,鈷制品在石油煉制中作為催化劑有著較長的歷史,且在促進煉油的發展中起著重要作用。如有的用金屬鈷與鋁、鐵等制成合金催化劑;而用氧化鈷作為石油催化劑也是十分重要,對于加速石油煉制的作用是*的。因此,近幾年來氧化鈷催化劑的使用躍居重要地位。

應用于:壓敏電阻、熱敏電阻、氧化鋅避雷器、顯像管玻殼、鋰離子電池等行業。用于制油漆顏料、陶瓷釉料和鈷催化劑等。

四、氧化鈷的分散

氧化鈷粉體應用,需要分散,或水或油或溶劑。粉體分散易于團聚,需要強機械力進行研磨分散。氧化鈷粉體粒徑一般為10微米左右,需要加入液體介質中分散應用,氧化鈷+液體介質+分散劑采用XMD2000系列研磨分散機進行研磨分散,解決團聚問題,更均勻的分散,并進一步細化粒徑,一般分散后粒徑為D90小于1微米,分散效果好,效率高。

五、氧化鈷濕法分散研磨機特點

1、SID希德研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到更低,保證機器連續24小時不停機運行。

2、氧化鈷分散到液體介質當中,容易形成團聚。太倉希德研磨式分散機可以很好的解決這一問題,“膠體磨+分散機”的*結構,一級研磨模塊可以將團聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。 

3、氧化鈷是超細粉體,所以需要強大的作用對其進行分散,傳統分散設備轉速一般不足3000rpm,難以分散。而SID研磨分散機轉速高達18000rpm,剪切速率高,可以充分的將氧化鈷分散到液體介質當中。  

4、SID研磨分散機采用管線式分體式結構,物料從進口進入設備工作腔中,進行處理,然后再從出口打出,物料可以得到充分剪切細化分散,產品更均勻穩定。另外可以實現在線式生產,滿足大工業化生要求。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

 

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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